光催化除臭裝置特點： 1、除臭效率高：能高效去除硫化氫、氨氣、硫醇類、揮發性有機物（VOC）、無機物等各種惡臭氣體，脫臭效率 高可達99%以上。 2、應用廣泛：廣泛應用于制藥、農藥、橡膠、石化、污水廠等各種需要除臭場所。 3、適應性強：可適應高、低濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。 4、運行成本低，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查。 5、本設備能耗低，設備風阻低,可節約排風動力能耗。 UV光催化凈化除臭設備適用范圍： 牛皮紙漿、煉油、煉焦、石化、煤氣、糞便處理、制藥、農藥、合成樹脂、橡膠、垃圾處理、污水處理、皮革加工、化肥廠等產生的硫化氫、氨、硫醇類、苯乙烯等惡臭氣體。 光催化處理化工廢氣、甲硫醇氣體、烤漆房氣體處理、甲苯類氣體尾氣處理、原料藥廠尾氣處理、家具廠烤漆廢氣都有較好的效果。

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、設備用途介紹：本產品主要用于處理工業廢氣中的各種有毒有害氣體，裂解惡臭氣體如：氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S、非甲烷總烴、甲醛、芳香烴、硫醚、VOC類，苯、甲苯、二甲苯、吲哚、硝基的分子鍵，使呈游離狀態的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物，如CO2、H2O等。 二、設備技術介紹：2-1：UV紫外線——促進列解由于半導體的光吸收閾值與帶隙具有式K=1240/Eg(eV)的關系,因此常用的寬帶隙半導體的吸收波長閾值大都在紫外區域。當光子能量高于半導體吸收閾值的光照射半導體時,半導體的價帶電子發生帶間躍遷,即從價帶躍遷到導帶,從而產生光生電子(e-)和空穴(h+)。此時吸附在納米顆粒表面的溶解氧俘獲電子形成超氧負離子,而空穴將吸附在催化劑表面的氫氧根離子和水氧化成氫氧自由基。而超氧負離子和氫氧自由基具有很強的氧化性,能將 大多數的有機物氧化至 終產物CO2和H2O,甚至對 些無機物也徹底分解。2-2：172微波——內部穿透發熱，促進拆分分子結構172光波利用紫外光照射有機物表面，172波長的紫外光被物體表面吸收后，有機物分子結構的DNA核酸產生大量的熱量，分子鏈吸收光波漲大斷裂，而大氣中的氧氣在吸收了波長為172nm的紫外光子后氧分子的原子氧 其活潑，這些原子氧會與被切斷的有機物原子結合，并將之游離成的氧能基（如-OH，-CHO，-COOH），促進分子的再次新組合。2-3： 后通過足量的臭氧進行氧化——生成二氧化碳和水產品技術原理：產品 利于超強172微波對有機廢或無機廢氣進行快速列解分裂打短，促進有害氣體分子對高能UV紫外線光束的吸收，UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），由于有 部分有機物質分子結構是環狀多鏈式的非常穩定，未打斷分子結構的這 部物質再 次通低溫超高壓電擊電解達到分子分裂，在分子分裂后由于設備高能185臭氧光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生大量臭氧。UV+172微波+電離+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧),眾所周知臭氧對有機物具有 強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有 強的清除效果。 后通過臭氧發生器制造足夠的氧離子對廢氣進行氧化，達到讓廢氣生成二氧化碳和水的效果。由于臭氧對有機物具有 強的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果http://www.sdsthb.cn。咨詢熱線：15764146726