1、光催化氧化設(shè)備能凈化揮發(fā)性有 機物、硫化氫、氨氣等無機物類污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達(dá)99%以上，

2、光催化氧化設(shè)備可適應(yīng)于 大部分高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質(zhì)的脫臭凈化處理，通過合理的模塊配置可廣泛應(yīng)用于：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾中轉(zhuǎn)站、污水泵房等惡臭氣體的脫臭凈化處理。可每天24小時連續(xù)工作，運行穩(wěn)定可靠。

3、光催化氧化設(shè)備無任何機械裝置，無運動噪音，無需專人管理和日常維護(hù)，只需要作定期檢查維護(hù)，維護(hù)和能耗成本低，風(fēng)阻 低，可節(jié)約大量排風(fēng)動力能耗，達(dá)到節(jié)能的目的。

4、光催化氧化設(shè)備采用光解原理，采取了隔爆處理，設(shè)備性能穩(wěn)定，特別適用于高濃度易燃易爆廢氣的場合。

5、光催化氧化設(shè)備無需惡臭氣體進(jìn)行預(yù)處理，如加溫、加濕等，設(shè)備工作環(huán)境溫度在-30度~95度之間，濕度在30%~98%、PH值在2~13范圍均可正常工作，無需添加其他物質(zhì)及藥劑參與處理。

6、光催化氧化設(shè)備可根據(jù)風(fēng)量及氣體濃度的大小，進(jìn)行靈活配置，采用抽屜式插拔安裝形式，配件統(tǒng) ，安裝及維護(hù)方便。

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